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產(chǎn)品詳細(xì)頁
二氧化硅分析裝置

二氧化硅分析裝置

  • 產(chǎn)品型號(hào):SLIA-2000
  • 更新時(shí)間:2024-03-18
  • 產(chǎn)品介紹:二氧化硅分析裝置
    自動(dòng)連續(xù)監(jiān)測鍋爐水中二氧化硅的濃度和半導(dǎo)體清洗用超聲波純水中二氧化硅的濃度。檢測速度快,重現(xiàn)性高,既可以檢測低濃度二氧化硅,也可檢測高濃度二氧化硅,可有效提高鍋爐的啟動(dòng)時(shí)間,強(qiáng)化半導(dǎo)體和化工領(lǐng)域的質(zhì)量管理。
  • 在線留言 86-21-54933058/54933060/54933358/54182486/28097339

產(chǎn)品介紹

二氧化硅分析裝置

自動(dòng)連續(xù)監(jiān)測鍋爐水中二氧化硅的濃度和半導(dǎo)體清洗用超聲波純水中二氧化硅的濃度。檢測速度快,重現(xiàn)性高,既可以檢測低濃度二氧化硅,也可檢測高濃度二氧化硅,可有效提高哦啊鍋爐的啟動(dòng)時(shí)間,強(qiáng)化半導(dǎo)體和化工領(lǐng)域的質(zhì)量管理。

測量范圍:0~10ug/100ug/L、0~50ug/500ug/L、0~100ug/1000ug/L、0~200ug/2000ug/L、0~0.5mg/5mg/L

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自動(dòng)連續(xù)監(jiān)測鍋爐水中二氧化硅的濃度和半導(dǎo)體清洗用超聲波純水中二氧化硅的濃度。檢測速度快,重現(xiàn)性高,既可以檢測低濃度二氧化硅,也可檢測高濃度二氧化硅,可有效提高哦啊鍋爐的啟動(dòng)時(shí)間,強(qiáng)化半導(dǎo)體和化工領(lǐng)域的質(zhì)量管理。

測量范圍:0~10ug/100ug/L、0~50ug/500ug/L、0~100ug/1000ug/L、0~200ug/2000ug/L、0~0.5mg/5mg/L

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